内建电势 / 内建电压:指在平衡状态下,由于材料内部(常见于 p-n 结 或金属-半导体接触)载流子扩散与电场漂移相互抵消而形成的天然电势差。它会在结区产生电场,阻碍进一步扩散。(在半导体语境中最常见;在其他领域也可能有引申用法。)
/ˌbɪlt ˈɪn pəˈtɛnʃəl/
The built-in potential prevents electrons from diffusing freely across the junction.
内建电势会阻止电子在结区两侧自由扩散。
In a silicon p–n junction at equilibrium, the built-in potential depends on doping concentrations and determines the width of the depletion region.
在平衡状态下的硅 p–n 结中,内建电势取决于掺杂浓度,并影响耗尽层的宽度。
built-in 来自 build(建造)+ in(在内),表示“内置的、先天存在于系统内部的”;potential 来自拉丁语 potentialis(有力量的、潜在的),在物理学中专指“势/电势”。合起来强调这种电势差不是外加的,而是结构与材料性质“自带”的。