二氯硅烷：一种含硅的卤代氢硅烷化合物，化学式 SiH₂Cl₂。常用作半导体与材料工业中的前驱体气体（如化学气相沉积 CVD），用于制备硅薄膜、硅基涂层等。其具有反应性，遇水易水解并可能放出腐蚀性气体。
/ˌdaɪˌklɔːroʊˈsaɪleɪn/
Dichlorosilane is used to make thin silicon films.
二氯硅烷可用于制备薄的硅薄膜。
In semiconductor manufacturing, dichlorosilane can act as a precursor in chemical vapor deposition, but it must be handled carefully because it reacts with moisture.
在半导体制造中，二氯硅烷可作为化学气相沉积的前驱体，但由于它会与水分反应，因此必须谨慎处理。
dichloro- 表示“含两个氯原子（di- ‘两个’ + chloro- ‘氯’）”，silane 指“硅烷类化合物”（与 silicon“硅”相关）。合起来字面意思就是“含两个氯取代的硅烷”。
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